Composição para filmes finos cerâmicos, processo de obtenção de resina para filmes finos cerâmicos sobre substrato de vidro/ FTO e filmes finos cerâmicos sobre substrato de vidro/FTO obtidos

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dc.creatorDias, Jeferson Almeida
dc.creatorAndrade Junior, Marcos Antonio Santana
dc.creatorMorelli, Márcio Raymundo
dc.creatorBretas, Rosario Elida Suman
dc.creatorSantos, Hugo Leandro Sousa dos
dc.creatorSales, Lucia Helena Mascaro
dc.creatorGiraldi, Tania Regina
dc.date.accessioned2023-01-13T21:51:48Z
dc.date.available2023-01-13T21:51:48Z
dc.description.resumoÉ descrita uma composição para filmes finos cerâmicos que compreende uma resina precursora à base de sais de metais de transição e sais alcalino terrosos ou sais complexos de lantânio ou derivados e sal de metal de transição, a dita resina sendo adicionado o copolímero tribloco OPE20OPP70OPE20 e onde a proporção do dito copolímero tribloco para cada mililitro da resina precursora é de pelo menos 5 mg, à temperatura ambiente. O processo de obtenção da resina para filmes finos compreende aquecer e agitar a composição de resina precursora e polímero tribloco, ajustar as viscosidades ao entorno de 10 cP, deixar a solução descansar por algumas horas para desprendimento das bolhas formadas na fase líquida, e recuperar e armazenar o produto resina. A resina obtida é usada para a obtenção de filmes óxidos por deposição sobre substrato de vidro/FTO seguida de calcinação. Os filmes óxidos são usados em processos eletroquímicos, fotovoltaicos e em sensores.pt_BR
dc.identifier.otherBR 10 2019 025561 7 A2pt_BR
dc.identifier.urihttps://repositorio.ufla.br/handle/1/55793
dc.rights.holderFundação Universidade Federal de São Carlospt_BR
dc.rights.holderUniversidade Federal de Alfenaspt_BR
dc.titleComposição para filmes finos cerâmicos, processo de obtenção de resina para filmes finos cerâmicos sobre substrato de vidro/ FTO e filmes finos cerâmicos sobre substrato de vidro/FTO obtidospt_BR

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